„Sausojo proceso“ tirpikliuose dažniausiai naudojami šie komponentai:
(1) 31 % (360 gramų litre, Baumé laipsnis didesnis nei 19) ar didesnės koncentracijos druskos rūgštį (HCl) tiesiogiai naudoti kaip tirpiklį;
(2) kaip tirpiklį naudojant vandeninį cinko chlorido (ZnCl2) tirpalą;
(3) Kaip tirpiklį naudojant vandeninį amonio chlorido (NH4Cl) tirpalą;
(4) Kaip tirpiklį naudojant amonio chlorido ir cinko chlorido kompleksinės druskos vandeninį tirpalą.
Kinijos karštai cinkuoto plieno vamzdžių gamyklose tirpiklis dažniausiai naudojamas amonio chlorido ir cinko chlorido kompleksinės druskos vandeninis tirpalas.
